工业显微镜 LV100ND/LV100DA-U 是一款基于模块化设计的高性能工业显微镜系统,专为半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料科学及精密模具制造等多领域应用而开发。搭载尼康先进的CFI60-2光学系统,结合灵活的支架与照明配置,支持多种观察方法,满足复杂工业检测需求。
该系列显微镜提供手动与电动操控模式,并支持反射照明专用以及反射/透射组合照明方式,适应多样化的样品观察场景。通过集成数码控制装置,可实现对物镜信息的自动识别和显微镜的电动操作,显著提升图像采集与观察效率。
✓ 先进的 CFI60-2 光学系统:具备高数值孔径与长工作距离,优化色差校正性能,同时减轻整体重量,提升成像质量与操作便利性。
✓ 多种观察方法支持:支持明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光及双光束干涉测量等多种观察技术,LV100DA和LV100DA-U型号更支持透射型微分干涉、相衬等功能。
✓ 模块化灵活配置:可根据应用需求自由选择支架装置与照明模式(反射/透射组合),适配不同样品类型与检测环境。
✓ 数码集成与电动控制:支持数码控制装置检测显微镜状态信息并实现电动操作,提高观察与图像拍摄的工作效率。
1. 高性能光学系统
采用改进型CFI60-2光学平台,在保持高数值孔径的同时延长了工作距离,有效提升景深与分辨率。优异的色差校正能力确保在宽光谱范围内获得清晰、真实的图像表现。
2. 多样化观察方法兼容
支持包括明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量在内的多种观察模式。特定型号如LV100DA和LV100DA-U还扩展支持透射型微分干涉、暗场、偏光及相衬观察,适用于透明或低对比度样品。
3. 灵活的操作模式
用户可选择手动或电动操控方式,满足从常规检测到高精度自动化成像的不同需求。电动模式下可通过数码控制系统实现远程调节与数据记录,便于构建数字化实验室流程。
4. 智能化数码集成
配备数码控制接口,能够自动读取物镜信息及其他显微镜参数,简化图像标注与归档过程,提升科研与生产环境中的可追溯性与工作效率。
适用领域:半导体器件、封装工艺、FPD(平板显示器)、电子元器件、材料科学研究、精密模具制造等工业检测与分析场景。
ECLIPSE LV系列显微镜机身采用模块化制造理念,允许根据具体观察目的灵活配置支架与照明系统。支持反射照明专用模式以及反射/透射组合照明模式,适应不透明与透明样品的双重需求。
观察方法支持如下:
明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光、双光束干涉测量。
其中,LV100DA和LV100DA-U型号额外支持:透射型微分干涉、暗场、偏光、相衬观察功能。
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A:支持明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量观察功能。其中LV100DA和LV100DA-U还支持透射型微分干涉、暗场、偏光和相衬观察功能。
A:是的,可通过数码控制装置检测物镜信息并实现电动操作,提升观察和图像拍摄的效率。
A:采用经过改进的CFI60-2光学系统,具有高数值孔径、长工作距离、优良色差校正性能和更轻的重量。
A:适用于半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等工业领域的检测与分析。
A:是的,用户可选择反射照明专用模式或反射/透射组合照明模式以满足不同应用需求。








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