上海佑科RG-3618AA原子吸收分光光度计是一款专为高精度元素分析设计的现代化光谱仪器。该设备采用出色的全反射光学系统,从根本上保证了仪器具备优秀的信噪比和稳定性。其核心优势在于集成了全面安全的智能气体控制模块以及高性能的双背景校正技术(全波段氘灯校正与自吸校正),能够有效消除复杂基体干扰。
在操作体验上,RG-3618AA实现了高度自动化,支持八灯位360度旋转及一键快速完成测量流程。配合基于Windows系统的专业工作站软件,用户可轻松实现从参数设置到数据输出的全流程智能化管理,广泛适用于各类实验室对微量及痕量元素的精确检测需求。
✓ 卓越光学性能:采用全反射光学系统设计,显著提升光通量,确保仪器拥有极佳的信噪比和检测灵敏度。
✓ 智能安全管控:内置全面安全的智能气体控制模块,实时监控气路状态,保障实验过程的安全性与稳定性。
✓ 双重背景校正:配备出色的全波段氘灯背景校正技术及高性能自吸双背景校正,有效应对复杂样品基体干扰。
✓ 高效多元素分析:先进的八灯架360度旋转设计,支持高性能元素灯,实现多元素连续自动测定,大幅提升工作效率。
✓ 全自动智能操作:集成全自动仪器控制系统与专业工作站软件,简化操作流程,实现从点火到数据分析的一键式智能管理。
1. 全反射光学系统架构:仪器采用优化的全反射光路设计,减少了光能损失,确保了在整个波长范围内的高能量传输效率。这种设计不仅提升了信号的稳定性,还为低浓度样品的准确检测提供了坚实的光学基础。
2. 智能气体与安全控制:内置的智能气体控制模块能够对乙炔、空气等燃气进行精确调控与实时监测。系统具备多重安全保护机制,当气体压力异常或流量不稳时自动干预,确保原子化过程的平稳与安全。
3. 高性能双背景校正技术:结合了全波段氘灯背景校正与高性能自吸背景校正两种模式。用户可根据样品特性灵活选择,有效扣除分子吸收和光散射带来的背景干扰,确保在复杂基体样品分析中的数据真实性。
4. 自动化八灯位系统:创新的八灯位灯架支持360度旋转,可预装多种元素空心阴极灯。系统自动识别灯位并优化电流设置,无需人工频繁换灯,实现了多元素分析的无缝衔接与自动化运行。
5. 专业工作站软件支持:搭载RG-WinAAS工作站软件,运行于MS Windows系统之上。界面简洁直观,具备自动寻峰、自动调零、标准曲线拟合及报告生成等功能,实现了仪器控制的完全自动化与数据处理的智能化。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 仪器型号 | RG-3618AA |
| 波长范围 | 190~900nm |
| 光谱带宽 | 0.1、0.2、0.7、1.4、2nm五档自动切换 |
| 波长示值误差 | ±0.15nm |
| 灯位 | 8灯 |
| 原子化系统 | 火焰,石墨炉(外置) |
适用领域:广泛应用于环境监测、食品安全、医疗卫生、地质矿产、石油化工、农业科研及高等院校等领域的实验室分析。
典型用途:适用于水样、土壤、食品、生物样品、金属材料等各类样品中微量及痕量金属元素的定量分析与检测。
标准配置:主机系统(含全反射光学系统、八灯位灯架)、智能气体控制模块、原子化器系统(火焰原子化器)、RG-WinAAS工作站软件及配套通讯线缆。
工作原理:基于原子吸收光谱法原理,利用待测元素基态原子对特征辐射线的吸收程度进行定量分析。仪器通过光源发射特征谱线,经过原子化器被基态原子吸收后,由单色器分离出特征谱线,检测器测量吸光度从而计算元素含量。
操作提示:使用前请检查气路连接是否紧密,确认排风系统正常工作。建议定期清洁燃烧头及光学窗口,以保持最佳光学性能。进行石墨炉分析时,需正确安装外置石墨炉电源及冷却水系统。
A:该仪器广泛应用于环境监测、食品安全、医疗卫生、地质矿产、石油化工、农业科研及高等院校等领域的实验室。它主要用于水样、土壤、食品、生物样品、金属材料等各类样品中微量及痕量金属元素的定量分析与检测。
A:该仪器的波长范围为 190~900nm,光谱带宽支持 0.1、0.2、0.7、1.4、2nm 五档自动切换,波长示值误差控制在 ±0.15nm。此外,它采用全反射光学系统设计,以确保优秀的信噪比和稳定性。
A:RG-3618AA 配备了 8 灯位灯架,支持 360 度旋转,可预装多种元素空心阴极灯并实现自动识别与电流优化,无需人工频繁换灯。配合基于 Windows 系统的 RG-WinAAS 工作站软件,可实现从参数设置、自动寻峰、自动调零到数据输出的全流程智能化管理。
A:使用前需检查气路连接是否紧密,并确认排风系统正常工作。建议定期清洁燃烧头及光学窗口,以减少光能损失并保持最佳光学性能。若进行石墨炉分析(外置),需正确安装外置石墨炉电源及冷却水系统,并注意监控智能气体控制模块的状态。
A:该仪器的原子化系统包括火焰原子化器,并支持外置石墨炉。在背景校正方面,它采用了高性能的双背景校正技术,即全波段氘灯背景校正与自吸背景校正,用户可根据样品特性灵活选择,以有效消除复杂基体干扰,确保数据真实性。








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