BM-SG20BD D 是一款专为半导体工业、硅片制造业、电子信息产业及冶金工业需求开发的高级正置金相显微镜。该仪器采用先进的无限远光学系统,具备落射和透射两种照明型式,能够轻松实现明场、暗场、偏光及微分干涉(DIC)等多种观察模式。
凭借稳定且高品质的光学设计,该设备确保了极佳的成像清晰度与衬度。其符合人机工程学的结构设计,有效降低了长时间工作的疲劳感,配合高精度的数字成像系统,为科研与工业检测提供了可靠的微观分析解决方案。
✓ 无限远光学系统:采用长工作距离无限远平场物镜,消除像差,视野更平坦清晰。
✓ 多功能观察模式:支持明场、暗场、偏光及 DIC 观察,满足多样化样品分析需求。
✓ 高清数字成像:集成高像素 CMOS 摄像机与专业测量软件,实现图像采集与数据量化分析。
✓ 灵活照明系统:透射与反射双路科勒照明,亮度连续可调,适配不同材质样品。
✓ 人性化操作设计:同轴粗微调焦机构与大行程移动平台,操作顺滑精准,提升工作效率。
1. 卓越的光学性能:搭载超长工作距离无限远平场明/暗场物镜组,配合超宽视场目镜,确保在整个放大范围内获得边缘锐利、色彩还原真实的图像,特别适合粗糙表面或深层结构的观察。
2. 丰富的观察方法:除了基础的明暗场观察外,内置偏光装置与 DIC 接口,可观察材料的各向异性特征及微小高度差,广泛应用于晶体结构分析与应力检测。
3. 智能化图像分析:配备数字 CMOS 摄像系统,通过 C 接口连接电脑,利用专用几何测量分析软件,可对点、线、圆、弧度及面积等参数进行精确测量与报告生成。
4. 精密机械操控:工作台拥有大尺寸移动范围与高精度游标读数,调焦机构采用同轴设计,微调格值极小,确保在寻找焦点和定位样品时既快速又精准。
5. 专业照明调控:透射与反射光源均采用科勒照明原理,并配有孔径光阑和视场光阑,用户可根据样品特性自由调节光照角度与强度,以获得最佳对比度。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 超宽视场平场目镜 | 10X,φ25mm |
| 十字分划目镜 | 10X,φ20mm |
| 超长工作距离无限远平场明/暗场物镜 | 5X/0.12;10X/0.25; 20X/0.40; 50X/0.55 |
| 机械筒长 | 无限远系统∞ |
| 放大倍数 | 50X-500X |
| 工作台 | 移动平台 189×160mm 移动范围:80×50mm,游标:0.1mm |
| 瞳距 | 50-75 mm |
| 调焦装置 | 30 mm 粗微动调焦同轴机构微调格值 0.002mm |
| 聚光镜 | N.A.1.25 阿贝聚光镜带可变光栏及滤色片 |
| 偏光装置 | 检偏镜可 360 度旋转。起偏镜、检偏镜均可移出光路 |
| 滤色片 | 滤色片(绿、蓝、中性) |
| 光源 | 透射照明:科勒照明卤素灯 12V50W,AC85V—260V,亮度连续可调;反射照明:卤素灯 12V50W,AC85V—260V,亮度连续可调、带孔径光阑和视场光栏 |
| 计算机成像系统 | 数字 CMOS 摄像机,500 万像素,带几何测量分析软件 |
适用领域:广泛应用于半导体晶圆检测、电子元件失效分析、金属材料金相组织研究、精密陶瓷及复合材料微观结构分析等领域。
典型用途:适用于芯片线路检查、金属晶粒度评级、夹杂物分析、涂层厚度观测以及各类工业零部件的表面缺陷检测。
标准配置:主机包含无限远光学镜体、多只长工作距离物镜、超宽视场目镜、十字分划目镜、阿贝聚光镜、偏光组件、透反双路照明系统及 500 万像素数字摄像接口。软件部分包含几何测量分析工具,电脑需用户自购。
工作原理:利用光线透过或反射样品表面,经过无限远校正物镜成像于无穷远,再由筒镜聚焦于目镜焦平面或相机传感器。通过调节光阑与偏光组件,增强样品不同物理特性的对比度,从而揭示微观形貌。
操作提示:使用前请根据样品类型选择透射或反射照明模式;进行高倍观察时,请先使用低倍物镜找到目标并调至视野中心,再切换至高倍物镜进行微调;使用偏光功能时,注意旋转检偏镜至消光位置以获得最佳效果。
A:BM-SG20BD D 专为半导体工业、硅片制造业、电子信息产业及冶金工业开发。典型用途包括芯片线路检查、金属晶粒度评级、夹杂物分析、涂层厚度观测以及各类工业零部件的表面缺陷检测,支持明场、暗场、偏光及微分干涉(DIC)等多种观察模式。
A:该显微镜采用无限远光学系统,总放大倍数为 50X-500X。标配超长工作距离无限远平场明/暗场物镜组,具体规格为:5X/0.12、10X/0.25、20X/0.40 和 50X/0.55。
A:设备配备移动平台尺寸为 189×160mm,移动范围为 80×50mm,游标读数精度为 0.1mm,便于大范围定位。调焦采用 30mm 行程的粗微动同轴机构,微调格值高达 0.002mm,确保在高倍观察下能精准找到焦点。
A:照明系统包含透射和反射双路科勒照明,均使用 12V50W 卤素灯,电压适应范围 AC85V—260V,亮度连续可调且带孔径与视场光阑。成像系统搭载数字 CMOS 摄像机,像素为 500 万像素,并附带几何测量分析软件。
A:使用前需根据样品选择透射或反射模式;高倍观察时请先用低倍物镜定位中心再切换;使用偏光功能时需旋转检偏镜至消光位置。清洁时应注意保护光学表面,非专业人员请勿随意拆卸物镜或照明组件,电脑需用户自购以配合成像系统使用。








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