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本产品为玛瑙研磨仪，采用高纯度玛瑙材质制成的研钵与研棒系统，专用于对粒径较粗的固体颗粒进行高效、均匀的微细研磨。设备通过精密设计的双电机驱动结构，实现研钵慢速自转与研棒快速锥面轨迹转动，形成独特的碾压式研磨机制。
玛瑙研钵底面为严格意义上的半球面，表面坚硬、耐磨且十分光滑，由低速减速电机驱动进行自转；玛瑙研棒头部同样为半球面结构，中心线与研钵中心线成合适斜角，在内置压缩弹簧作用下始终紧贴研钵底部。两者协同运动，确保被加工颗粒受力均匀，研磨机会均等，最终获得粒度高度一致的微粉，可达微米级甚至纳米级水平。研磨过程可设定时间，并实现自动化控制，提升实验重复性与操作便捷性。
✓ 高精度研磨：采用半球面玛瑙研钵与研棒组合，配合独特运动轨迹，实现对粗颗粒的均匀碾压式研磨。
✓ 双电机独立驱动：研棒快转（100 rpm）、研钵慢转（10 rpm），形成复合研磨运动，提高研磨效率与微粉一致性。
✓ 全自动定时控制：支持运行时间设定，实现研磨过程自动化，保障实验条件的一致性和可重复性。
✓ 超细粉碎能力：可将粗颗粒研磨至微米级，部分条件下可达纳米级粒度，满足高精度样品前处理需求。
✓ 优异材料性能：研钵和研棒均为玛瑙材质，具备高硬度、耐磨损、无污染特性，适用于高纯度样品处理。
1. 独特的碾压式研磨机制
研钵做慢速自转，研棒在快转减速电机驱动下沿锥面轨迹旋转，结合弹簧施加的恒定压力，使研棒头始终紧贴研钵底面，形成连续稳定的碾压动作，有效破碎粗颗粒。
2. 均匀研磨效果
由于研磨接触面为严格半球面，且研磨路径覆盖全面，所有颗粒受到的研磨作用均等，避免局部过磨或研磨不足，显著提升微粉粒度均匀性。
3. 时间可控自动化操作
配备时间设定功能，用户可根据样品性质设定所需研磨时长，设备自动启停，减少人为干预，提升实验标准化程度。
4. 高纯度无污染研磨
玛瑙材质化学稳定性强，不引入金属离子或其他杂质，特别适合用于地质、陶瓷、电子材料等对纯度要求高的领域样品制备。
| 序号 | 项 目 | 单位 | 规格 | 参数描述 |
| 1 | 研钵口径 | mm | 120 | |
| 2 | 研钵深度 | mm | 40 | |
| 3 | 研棒转速 | rpm | 100 | |
| 4 | 研钵转速 | rpm | 10 | |
| 5 | 研棒功率 | W | 60 | |
| 6 | 研钵功率 | W | 40 | |
| 7 | 研钵材质 | 玛瑙 | ||
| 8 | 研钵棒材质 | 玛瑙 | ||
| 9 | 长×宽×高 | mm | 240×240×500 | |
| 10 | 重量 | kg | 12 | |
| 11 | 电压 | V | 220 | |
| 12 | 可否设定运行时间 | 可以 |
适用领域：地质矿产分析、陶瓷材料制备、电子粉体加工、化工原料处理、环境样品前处理、科研实验室固体颗粒微细化等。
玛瑙研钵底面为严格意义上的半球面，由慢转速减速电机驱动进行自转；研棒头部也为相同半球面结构，中心线与研钵中心线相交成适宜角度，确保最佳研磨接触状态。
研棒内部设有压缩弹簧，使棒头在弹簧压力作用下始终与研钵底部保持紧密贴合，保证研磨过程中压力稳定、接触充分。
研棒由快转速减速电机驱动，运动轨迹呈类锥面旋转，与研钵的自转形成复合相对运动，从而实现对粗颗粒的高效、均等碾压式研磨。
经过设定时间段的自动化研磨后，原始粗颗粒可被粉碎至微米级粒度，部分条件下可达纳米级，满足高精度微粉制备需求。
使用前后应清洁研钵和研棒，避免样品交叉污染；禁止研磨超过设备承受硬度的物料；存放时应置于干燥环境中，防止震动损坏研磨面；定期检查电机运转状态及弹簧压力是否正常。
A：可以，经过合理设定时间段的研磨后，颗粒粒度能达到微米级，有的能达到纳米级。
A：研钵材质为玛瑙，研钵棒材质也为玛瑙，具备高硬度、耐磨、无污染的特点。
A：可以设定运行时间，并实现自动化控制，提升实验重复性与操作便利性。
A：研棒转速为100 rpm，研钵转速为10 rpm，分别由快转速和慢转速减速电机驱动。
A：设备长×宽×高为240×240×500 mm，整机重量为12 kg。
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