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兆声波清洗器是全新研发的高频超声清洗系列产品，采用触摸屏控制，可设置多组用户程序，操作简便，零工作噪音，实现静态超声。高频超声能使被清洗件表面附近形成速度梯度很大且极薄的声学边界层，杂质粒子受到液体兆赫频的震荡作用从器件表面脱落，能够清洗掉元器件表面微米、亚微米级的杂质颗粒，实现超精密清洗过程。
其频率涵盖多种高频选项，高频超声清洗过程由于极低的空化效应，对被清洗件表面不会产生损伤，能够有效解决精密元器件清洗后造成的腐蚀或损伤破坏等现象。产品被广泛应用于半导体制造领域，并且其除了有清洗作用外，还可以在化学机械抛光、显影、除胶、金属剥离、刻蚀等关键工艺中起到重要作用。
✓ 智能触控交互：采用大尺寸TFT触控屏幕，支持多组用户程序储存与直接操作，界面直观便捷。
✓ 无损精密清洗：利用兆赫频震荡作用去除微米及亚微米级颗粒，极低空化效应避免损伤元器件表面。
✓ 高效能量转换：电路及器件升级匹配，电功转换率高，无功损耗低，运行更节能稳定。
✓ 多重安全保护：具备数显超温度、超电压、超电流保护指示，确保设备与样品安全。
✓ 耐用防腐设计：采用不锈钢烤漆外壳，耐腐蚀、抗氧化，适应实验室复杂环境。
1. 7英寸TFT触控操作：配备高清触摸屏，人机交互界面友好，参数设置与状态监控一目了然，提升操作体验。
2. 间歇脱气功能：内置专业脱气程序，有效去除清洗液中的溶解气体，增强超声波在液体中的传播效率与清洗效果。
3. 全方位安全监测：系统实时监测运行状态，提供超温、超压、过流等多重保护指示，防止异常工况损坏设备。
4. 优化电路匹配：经过升级匹配的电路系统实现了高效的电能转换，降低无功损耗，保证长时间运行的稳定性。
5. 多频段可选配置：支持单频兆声频率选择，覆盖不同清洗需求，针对特定污染物提供最佳频率解决方案。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 仪器尺寸 L*W*H(mm) | 340x340x325 |
| 槽内尺寸L*W*H(mm) | 250x250x150 |
| 容量（L） | 10 |
| 超声频率 (MＨz) | 0.5/1.0/1.7 |
| 超声功率(W) | 300 |
| 加热功率(W) | 500 |
适用领域：半导体制造、微电子加工、精密光学元件清洗、科研实验室。
典型用途：晶圆清洗、化学机械抛光(CMP)后清洗、显影、除胶、金属剥离、刻蚀后清洗等关键工艺环节。
标准配置：主机、不锈钢托架、电源线、说明书。
工作原理：通过高频换能器产生兆声波，在清洗液中形成极薄的声学边界层，利用高频震荡力将微小颗粒从基底表面剥离，同时保持极低的空化效应以保护基材。
操作提示：使用前请确认液位没过换能面，根据清洗物材质选择合适的频率与时间程序，定期清理槽体以保持最佳性能。
A：该产品广泛应用于半导体制造、微电子加工、精密光学元件清洗及科研实验室。典型用途包括晶圆清洗、化学机械抛光(CMP)后清洗、显影、除胶、金属剥离以及刻蚀后清洗等关键工艺环节，能够实现微米及亚微米级杂质颗粒的超精密无损清洗。
A：该仪器尺寸为 340x340x325 mm，槽内尺寸为 250x250x150 mm，容量为 10 L。其超声频率支持 0.5/1.0/1.7 MHz 多频段选择，超声功率为 300 W，加热功率为 500 W。
A：设备采用7英寸TFT触控屏幕，支持多组用户程序储存与直接操作。使用前请确认液位没过换能面，可根据清洗物材质选择合适的频率（0.5/1.0/1.7 MHz）与时间程序。此外，建议利用内置的间歇脱气功能去除清洗液中的溶解气体，以增强超声波传播效率与清洗效果。
A：设备外壳采用不锈钢烤漆设计，耐腐蚀抗氧化。为了保持最佳性能，建议定期清理槽体。在运行过程中，系统会实时监测状态并提供超温、超压、过流等多重保护指示，若出现异常报警请及时检查，确保设备在安全工况下运行。
A：产品具备全方位安全监测功能，包括数显超温度、超电压、超电流保护指示，确保设备与样品安全。标准配置包含主机、不锈钢托架、电源线及说明书。其电路经过优化匹配，电功转换率高且无功损耗低，保证了长时间运行的稳定性与节能性。
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