KQ-700TDB 是一款高性能超声波清洗器，属于TDV系列，广泛应用于对清洁度要求较高的实验与工业场景。该设备集成了先进的数显控制系统，可精确设定和实时监控超声工作时间、功率、液位及加热温度等关键参数，确保操作过程稳定可控。
本产品配备单片机软件控制程序，支持累计工作时间记录（最大可达999999小时），具备多重安全保护功能，包括超温、超压、过流、低水位及无溶液保护。内槽采用优质304不锈钢冲压成型，外壳与降音盖同样使用304不锈钢材质，兼具耐用性与安全性。同时具备挥发性水蒸气自动回收装置和降音隔热设计，提升使用安全性与环境适应性。
✓ 智能数显控制：实时显示液位、温度、超声时间、功率及系统状态，支持记忆与设定多项参数。
✓ 多重安全保护：集成超温度、超电压、超电流、低水位、无溶液等多重保护机制，保障设备运行安全。
✓ 高效超声性能：标准超声频率为80KHz，超声功率达700W，且可在40-100%范围内调节，满足不同清洗需求。
✓ 专业结构设计：内槽与外壳均采用优质304不锈钢材料，抗腐蚀、易清洁；配备降音盖，降低噪音干扰。
✓ 环保节能配置：具有挥发性水蒸气自动回收功能，减少溶剂挥发，改善实验室环境。
1. 精准数显控制：设备采用数字显示屏，同步显示容器内的实际液位（30-120mm）、溶液温度、超声时间（1-480min可调）和超声功率，用户可直观掌握运行状态，提升操作精度。
2. 大功率可调超声系统：提供700W超声功率输出，支持40%-100%无级调节，适配多种样品清洗任务，增强去污能力的同时避免过度处理。
3. 智能加热控温功能：加热功率为1000W，温度设定范围为室温至80℃，适用于需要升温辅助清洗的应用场景，提高清洗效率。
4. 长寿命运行记录：仪器累计工作时间可达999999小时，便于维护管理和使用追踪，适用于长期连续作业环境。
5. 人性化操作设计：配置手控进排水功能，方便快速更换清洗液；标配清洗网篮，便于样品放置与取出，提升操作便捷性。
型号： |
KQ-700TDB |
外形尺寸： |
530*320*365mm |
内槽尺寸： |
500*300*150mm |
容量： |
22.5L |
标准超声频率： |
80KHz |
超声频率可选择替换 |
— |
频率转换时间可调： |
— |
超声功率： |
700W |
超声功率可调范围： |
40-100% |
水位显示： |
30-120mm |
加热功率： |
1000W |
制冷功率： |
— |
温度设定范围： |
室温-80℃ |
工作时间可调： |
1-480min |
溶液过滤： |
— |
电源： |
220V/50Hz |
适用领域：半导体晶片的高清洁度清洗，以及其他对清洗精度和洁净度有严苛要求的行业应用。
TDV系列清洗器具有挥发性水蒸气自动回收装置和降音隔热装置，有效减少溶剂损失并改善操作环境。清洗器内槽由优质304不锈钢冲压成形，耐腐蚀、强度高；降音盖及外壳亦采用优质304不锈钢板制造，确保整机耐用性和安全性。
仪器的操作程序由单片机软件控制，实现智能化管理。支持同时数显超声液位、溶液温度、超声时间与超声功率，提升操作透明度与控制精度。
其他配置包括：清洗网篮、手控进排水功能，方便日常操作与维护。
A：超声功率为700W，可在40-100%范围内调节。
A：温度设定范围为室温至80℃。
A：容量为22.5L，内槽尺寸为500*300*150mm。
A：是的，设备具备低水位和无溶液保护指示功能。
A：适用于半导体行业中半导体晶片的高清洁度清洗等应用场景。
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