本产品为一款高性能循环温控装置，适用于为反应釜、槽等设备提供稳定热源或冷源。其工作温度范围宽达-80℃~200℃，广泛应用于制药、化工、生物等多个行业领域，满足多种复杂工况下的温度控制需求。
该装置集成了预冷、制冷与加热系统，支持联合运行，实现快速升温和强制快速降温。采用全封闭循环设计，有效防止高温下导热流体挥发氧化，同时在低温环境下不易受外界影响，显著延长介质使用寿命。配备液位实时显示与多重安全保护功能，确保设备长期稳定运行。
✓ 宽温控制范围：温度控制范围为-80℃~200℃，适应极端高低温应用场景。
✓ 多系统协同控温：预冷、制冷与加热系统可联合使用，提升控温效率与响应速度。
✓ 高效换热设计：制冷换热器采用全钎焊板式结构，体积小、换热效率高。
✓ 全封闭循环系统：防止导热流体在高温时挥发氧化，低温时不受环境干扰，延长使用寿命。
✓ 实时液位监控：具备液位显示功能，可实时监视载热流体状态，避免缺液运行。
✓ 多重安全保护：集成超温保护、漏电保护、过电流保护等功能，保障人员与设备安全。
1. 宽范围温度控制
可在-80℃至200℃范围内精确控温，适用于需要极端温度条件的实验与生产过程，如深冷反应或高温合成。
2. 快速升降温能力
支持快速加热和强制快速降温，大幅缩短工艺周期，提高实验或生产效率。
3. 模块化系统设计
预冷、制冷与加热系统独立且可协同工作，灵活匹配不同控温策略，增强系统适应性。
4. 封闭式循环结构
全封闭循环系统减少介质损耗，避免污染与氧化，降低运行维护成本。
5. 高效换热组件
采用全钎焊板式换热器，结构紧凑，换热效率高，节省安装空间。
6. 智能监控与保护
实时显示液位状态，并配备超温、漏电、过电流等多重保护机制，确保运行安全可靠。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| ●温度控制范围宽 | -80℃~200℃。 |
适用领域：化工、制药、生物、材料测试、半导体、真空室、热测试平台等领域的温度控制。
典型应用：双层及三层反应釜温控、蒸馏系统控温、工艺过程温度模拟、恒温控制系统、材料性能测试中的温度调控。
设备支持风冷与水冷两种预冷方式机型，可根据现场条件灵活选配。制冷系统与加热系统可协同工作，实现高效动态控温。
全封闭循环结构确保导热流体在高温时不挥发、不氧化，在低温时不受环境湿度与结霜影响，提升系统稳定性与介质耐用性。
内置液位显示功能，便于操作人员实时掌握载热流体状态，防止因缺液导致设备损坏。
多重安全保护机制包括超温保护、漏电保护和过电流保护，全面保障设备与操作人员安全。
A：温度控制范围为-80℃~200℃。
A：支持强制快速降温，具备大降温速率特性。
A：具备超温保护、漏电保护、过电流保护等多种保护功能。
A：根据用户需求，可提供风冷和水冷两种预冷方式机型。
A：采用全钎焊板式换热器，占用空间小，换热效率高。
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