CureView Gradient Oven 是一种灵活的烤箱，专为精确温度控制和多样化加热需求设计。该设备支持在玻璃床上对测试板进行加热，并可实现多种温度曲线，温度范围为+5˚C至250˚C/环境温度+9˚F至482˚F。
配备32个光谱过滤红外卤素加热器，能够快速产生高温，且每个加热器均可独立控制，支持设置抛物线形梯度、上升或下降斜率以及多个温度块变化。设备支持导入由CurveX烤箱记录仪系统测量的梯度曲线，可有效模拟实验室规模的生产过程，提升实验重复性与工艺验证能力。
✓ 精准温度梯度控制：32个可独立控制的光谱过滤红外卤素加热器，支持自定义多种温度分布模式。
✓ 宽温域加热能力：温度范围为+5˚C至250˚C/环境温度+9˚F至482˚F，满足多样化的实验需求。
✓ 工艺模拟兼容性：支持导入CurveX烤箱记录仪系统测得的梯度曲线，实现真实生产条件的实验室复现。
1. 多模式温度梯度生成：用户可自由设定抛物线形梯度、线性上升/下降斜率或分段式多温度区，适应不同材料固化或反应需求。
2. 快速响应加热系统：采用32个光谱过滤红外卤素加热器，具备即时升温能力，显著缩短预热时间并提高控温动态响应。
3. 独立加热单元控制：每个加热器均可单独调节输出强度，确保温度场的高度灵活性与空间精度。
4. 生产过程模拟功能：通过导入CurveX系统记录的实际产线温度曲线，实现实验室内的工艺验证与优化。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 温度范围 | +5˚C至250˚C/环境温度+9˚F至482˚F |
| 加热器数量 | 32个 |
| 加热器类型 | 光谱过滤红外卤素加热器 |
| 控制方式 | 可单独控制 |
| 温度梯度模式 | 抛物线形梯度、上升或下降斜率、多个温度块变化 |
| 数据兼容性 | 支持导入CurveX烤箱记录仪系统测量的梯度曲线 |
适用领域：材料科学研发、电子封装工艺验证、复合材料固化研究、实验室级热处理模拟、工业生产前试制等。
设备采用顶部阵列式布局，集成32个光谱过滤红外卤素加热器，均匀覆盖玻璃床面。用户可通过控制系统为每个加热器设定独立功率输出，构建复杂的空间温度分布。
支持从外部导入实际产线中由CurveX烤箱记录仪系统采集的完整热历史数据，使实验室设备能够精确复现生产环境下的温度变化过程。
A：温度范围为+5˚C至250˚C/环境温度+9˚F至482˚F。
A：支持导入由CurveX烤箱记录仪系统测量的梯度曲线，用于模拟实验室规模的生产过程。
A：是的，32个光谱过滤红外卤素加热器均可单独控制。
A：可设置抛物线形梯度、上升或下降斜率或多个温度块变化。
A：适用于材料固化、热反应模拟、电子封装及复合材料工艺验证等需要精确温度梯度控制的实验。
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