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MP-2型双盘三速金相试样磨抛机是专为实验室金相制样设计的高效精密设备。该机型结构新颖,外观美观大方,运行时具备极高的平稳性与低噪音特性,为实验人员提供舒适的操作环境。
整机机架、集污盘、防护罩及盖板等关键部件均采用优质不锈钢板材制造,不仅坚固耐用,且具有优异的耐腐蚀性,日常维护保养极为便捷。用户只需根据工艺需求更换相应的磨盘或抛光盘,即可在一台设备上流畅完成从粗磨、细磨、干磨、湿磨到最终抛光的全套制样工序,是金相分析前处理的理想选择。
✓ 全不锈钢机身:主体及附件均采用不锈钢制成,抗腐蚀能力强,经久耐用且易于清洁维护。
✓ 三速可调驱动:提供多种转速选择,满足不同材质试样在粗磨、精磨及抛光阶段对线速度的差异化需求。
✓ 双盘独立设计:支持同时安装磨盘与抛光盘,或根据不同工序快速切换,大幅提升制样效率。
✓ 运行平稳低噪:优化的机械结构设计确保设备在高速运转下依然保持平稳,有效降低振动与噪音干扰。
✓ 多功能一体化:集粗磨、细磨、干湿磨及抛光功能于一体,简化实验室设备配置,节省空间。
1. 优质耐用的结构设计:设备整体采用高强度不锈钢板焊接成型,包括机架、集污盘及防护罩等部件。这种设计不仅提升了设备的整体刚性,还有效抵抗实验室化学试剂的侵蚀,延长使用寿命。
2. 灵活的三速调节系统:内置高性能电动机,支持三档转速切换。用户可根据试样的硬度及制样阶段(如粗磨需高转速去料,抛光需低转速保证表面质量),灵活选择最适宜的工作转速。
3. 高效的双盘工作模式:配备双工作盘设计,允许用户同时准备两种不同粒度的磨抛材料。在实际操作中,可显著减少更换耗材的等待时间,实现连续化作业。
4. 完善的环保与安全防护:标配集污盘与防护罩,能有效收集磨抛过程中产生的废液与碎屑,防止飞溅污染实验室环境,同时保护操作人员的安全。
5. 简便的维护与操作体验:设备布局合理,操作界面简洁直观。磨盘与抛光盘采用标准化接口,更换方便快捷,日常清理与维护工作简单轻松,降低使用门槛。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 砂纸直径 | 230mm |
| 磨盘直径 | 250mm |
| 抛盘直径 | 220mm |
| 转 速 | 700/900/1400rpm |
| 电 动 机 | AD280-4/6/8 0.2kw 380v 50Hz |
| 外形尺寸 | 1000*650*950 |
适用领域:广泛应用于金属材料、复合材料、陶瓷材料及电子元器件等领域的金相实验室。
典型用途:适用于各类金属试样的金相组织观察前的表面制备,包括钢铁、有色金属、合金等的粗磨、精磨及镜面抛光处理,为后续的显微组织分析提供高质量样品表面。
标准配置:主机台、双工作盘(磨盘/抛光盘)、不锈钢集污盘、防护罩、电源连接线及操作说明书。
工作原理:通过电动机驱动主轴旋转,带动安装在盘面上的砂纸、研磨膏或抛光织物高速转动。试样在人工施加的压力下与旋转盘面接触,利用磨料的切削作用去除表面变形层,最终获得平整、无划痕的镜面效果。
操作提示:使用前请检查电源线连接是否牢固,确认接地良好。根据试样材质选择合适的转速与磨抛介质。湿磨时请注意控制水流,避免过量导致飞溅或过少导致发热。操作完毕后请及时清理集污盘及设备表面,保持干燥整洁。
A:该设备专为实验室金相制样设计,广泛应用于金属材料、复合材料、陶瓷及电子元器件等领域。它集粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光功能于一体,用于制备钢铁、有色金属、合金等试样的表面,以便进行后续的显微组织分析。
A:根据技术规格,该设备的磨盘直径为250mm,抛盘直径为220mm,适配的砂纸直径为230mm。双盘独立设计支持同时安装不同工序的耗材,提高制样效率。
A:设备提供三档可调转速,分别为700rpm、900rpm和1400rpm,以满足不同材质和制样阶段的需求。其配备的电动机型号为AD280-4/6/8,功率0.2kw,电压380v,频率50Hz。
A:由于整机机架、集污盘及防护罩等关键部件均采用优质不锈钢板材制造,具有优异的耐腐蚀性,日常维护非常便捷。建议操作完毕后及时清理集污盘及设备表面的废液与碎屑,保持干燥整洁;湿磨时注意控制水流,避免飞溅或过热。
A:该设备的外形尺寸为1000*650*950(单位通常为mm)。由于其结构紧凑且集成度高,节省实验室空间,但在安装时需确保预留足够的操作空间,并确认电源环境符合380v/50Hz的要求以及良好的接地保护。








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