8W光谱投影仪是专为光谱分析领域设计的精密光学仪器,主要用于对摄谱仪拍摄的光谱底板进行定性及半定量分析。该设备不仅服务于专业的光谱比对工作,也可作为高倍率的一般投影仪使用,满足多样化的观察需求。
在定性分析模式下,用户可将被测光谱谱片与已知标准物质的谱片或标准光谱谱线表进行直观比对;在半定量分析中,则通过对比被测谱线与已知成分试样的谱线强度来评估含量。其稳定的光学系统和便捷的机械结构,确保了分析过程的准确性与高效性。
✓ 专用光谱分析:针对光谱底板特性优化光路,支持高精度的定性与半定量比对分析。
✓ 双重功能应用:既可作为专业光谱分析仪,也可作为通用高倍投影仪,提升设备利用率。
✓ 大范围投影显示:配备大直径投影屏,提供开阔的视野,便于多人同时观察或详细审视谱线细节。
✓ 灵活二维移动:支持横向与纵向的大范围移动调节,轻松覆盖整块光谱底板的不同区域。
✓ 稳定光学系统:内置专用光源与变压系统,确保投影亮度均匀、成像清晰,减少视觉疲劳。
1. 高精度定性比对:设备提供稳定的放大成像,允许用户将被测光谱与标准谱线表或已知样品谱片并置对比。通过清晰分辨谱线位置,快速确定元素组成,满足实验室常规定性鉴定需求。
2. 直观的半定量评估:基于谱线黑度与强度的视觉比较原理,用户可将未知样品的谱线强度与标准系列进行对照。这种直观的比较方法为元素含量的半定量估算提供了可靠依据。
3. 宽幅面投影观察:采用大尺寸投影屏设计,显著扩大了单次观察的光谱范围。较大的显示面积有助于把握光谱整体分布特征,同时保持边缘清晰度,方便细节查找。
4. 全版面扫描能力:载物台具备充足的横向和纵向移动行程,能够轻松遍历标准尺寸的光谱底板。无需频繁更换或重新定位底板,即可实现对整个记录区域的无缝检查。
5. 可调式放大成像:光学系统支持微调放大倍数,以适应不同分辨率的观察需求。配合高亮度光源,确保在不同放大倍率下均能获得反差适宜、轮廓分明的光谱图像。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 放大倍数 | 20X |
| 放大倍数调节范围 | 19.75-20.25X |
| 投影屏直径 | 300mm |
| 纵向移动距离 | 80mm |
| 横向移动距离 | 220mm |
| 光源 | 12V50W |
| 变压器 | 220V/12V |
| 仪器重量 | 41Kg |
| 外形尺寸 | 780×660×850mm |
适用领域:广泛应用于冶金、地质、环境监测、化学化工等需要进行元素光谱分析的实验室及科研机构。
典型用途:用于金属合金成分鉴定、矿石矿物元素分析、水质土壤重金属筛查以及教学演示中的光谱原理展示。
标准配置:主机机身、专用投影屏、12V50W照明光源组件、220V转12V电源变压器、光谱底板载物台及操作说明书。
工作原理:通过底部高强度光源透射光谱底板,经由高质量投影物镜组放大后,反射至水平投影屏上。利用机械导轨实现底板的二维平移,配合光学微调实现清晰成像,供观察者进行视觉比对。
操作提示:使用前请确认电源电压匹配,轻拿轻放光谱底板以免划伤。调节焦距时请缓慢旋转调焦手轮,避免镜头碰撞底板。长时间不使用时请关闭光源以延长灯泡寿命。
A:该设备专为光谱分析领域设计,主要用于对摄谱仪拍摄的光谱底板进行定性及半定量分析。在定性分析中,可将被测光谱与标准谱线表或已知样品谱片进行直观比对以确定元素组成;在半定量分析中,通过对比谱线强度来评估含量。此外,它也可作为高倍率的一般投影仪使用,满足多样化的观察需求。
A:彼爱姆8W光谱投影仪的标准放大倍数为20X,放大倍数调节范围为19.75-20.25X。其配备的投影屏直径为300mm,提供开阔的视野,便于多人同时观察或详细审视谱线细节。
A:仪器载物台支持灵活的二维移动调节。您可以通过机械导轨控制底板位置,其横向移动距离可达220mm,纵向移动距离为80mm。这种大范围的移动能力允许用户无需频繁重新定位底板,即可轻松遍历并检查标准尺寸光谱底板的整个记录区域。
A:使用时请轻拿轻放光谱底板以免划伤;调节焦距时请缓慢旋转调焦手轮,避免镜头碰撞底板。光源组件规格为12V50W,由220V/12V变压器供电,长时间不使用时请务必关闭光源以延长灯泡寿命。此外,仪器重41Kg,移动时需小心谨慎。
A:彼爱姆8W光谱投影仪的外形尺寸为780×660×850mm,仪器重量为41Kg。由于设备较重且属于精密光学仪器,建议在稳固的实验台上使用,并在搬运时注意防震和水平放置。








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