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奥林巴斯推出的万能平场半复消色差偏光物镜 UPLFLN10XP是一款专为高端显微成像设计的高性能物镜。该物镜在近红外光谱区域表现出高透射率,能够提供清晰、平坦的图像质量,适用于多种光学观察技术。
UPLFLN10XP 物镜通过优化内部结构将光学张力降至最低,显著减少双折射效应,确保在偏光、Nomarski DIC、明场和荧光等多种观察模式下实现卓越成像性能。其出色的光学校正能力使其成为材料科学、生命科学研究等领域的理想选择。
✓ 高透射率:在近红外光谱区域具有优异的光透过性能,提升弱光信号检测能力。
✓ 多模式兼容:支持偏光、Nomarski DIC、明场及荧光(B、G激发)等多种观察方法。
✓ 平场成像:采用平场半复消色差设计,有效校正场曲和色差,获得全视野清晰图像。
✓ 低内部应力:内部张力极低,最大限度减少双折射干扰,特别适合偏振光应用。
✓ UV荧光性能优秀:在365nm波长处表现优异,满足紫外激发荧光成像需求。
1. 宽光谱高透射率成像
UPLFLN10XP 在包括近红外在内的宽光谱范围内保持高透射率,确保从可见光到近红外波段均能高效传输光信号,适用于多通道荧光与深层组织成像。
2. 支持多种显微观察技术
该物镜针对明场、暗场、DIC、偏光及荧光成像进行了优化,尤其在DIC和偏光模式下表现“优秀”,可满足复杂样品的多维度分析需求。
3. 优秀的荧光成像能力
在B、G激发波段以及365nm紫外激发条件下均展现“优秀”级别的荧光性能,适合常规与紫外荧光标记实验。
4. 不适用于相差与TIRF技术
该物镜未设计用于相差、相衬或TIRF等特殊成像模式,用户在选型时需注意应用场景匹配性。
| 放大倍率 | 10 |
| NA | 0.3 |
| W.D. (mm) | 10 |
| FN | 26.5 |
| 盖玻片厚度 (mm) | - |
| 浸液 | - |
| 弹簧 | - |
| 校正环 | - |
| 孔径光阑 | - |
| 防水和防油功能 | - |
| 明场 | 优秀 |
| 暗场 | 良好 |
| DIC | 优秀 |
| 相差 | N/A |
| 相衬 | N/A |
| 偏光 | 优秀 |
| 荧光(B,G激发) | 优秀 |
| UV荧光(365nm处) | 优秀 |
| 多光子 | 不足 |
| 细胞学 | N/A |
| TIRF | N/A |
适用领域:材料科学、地质矿物分析、半导体检测、生物医学研究中的偏光与DIC成像、荧光显微术等。
UPLFLN10XP 物镜采用无盖玻片设计(盖玻片厚度标注为“-”),无需校正环调节,适用于无覆盖层或厚样本的直接观察。其不具备防水防油功能,使用时应避免接触液体污染。
该物镜不支持相差、相衬和TIRF等需要特殊光学结构的技术,但对明场、DIC、偏光及多种荧光模式提供了全面优化,特别适合需要高稳定性和低应力成像的应用场景。
A:支持,该物镜在B、G激发波段以及365nm紫外激发条件下均具有“优秀”的荧光成像性能。
A:不能,该物镜在相差、相衬和TIRF三项技术中均标注为“N/A”,不适用于这些成像模式。
A:其数值孔径(NA)为0.3,工作距离(W.D.)为10mm。
A:非常适合,该物镜内部张力极低,在偏光观察中表现“优秀”。
A:不具备,该物镜未配置防水和防油功能,使用时应注意防护。








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