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LEXT™ OLS5500 混合型 3D 光学轮廓仪是一款开创精准表面测量新标准的获奖平台。该系统融合激光扫描显微镜（LSM）、白光干涉（WLI）和焦点变化显微镜（FVM）三大核心技术，支持从初步发现到最终决策的完整分析流程，提供可追溯的高精度数据与智能化工作流，适用于高要求科研与工业检测环境。
作为一款高端三维光学轮廓仪，OLS5500 实现了纳米级垂直分辨率与毫米级视场范围的统一覆盖。其专用物镜设计、多模态成像能力以及智能自动化功能，确保对复杂几何结构、陡坡、反射或低对比度表面进行精确表征，广泛服务于半导体、材料科学、生物医学及精密制造等领域。
✓ 多技术融合成像：集成激光扫描显微镜（LSM）、白光干涉（WLI）和焦点变化显微镜（FVM），适配各类表面特性。
✓ 纳米级测量精度：使用 MPLAPON100X LEXT 物镜时测量噪声低至 1 nm，WLI 模式下可达 0.08 nm 表面形貌重复性。
✓ 智能自动工作流：Smart Scan II 自动采集、PEAK算法加速Z扫描、一键倾斜校正，提升操作效率。
✓ 高保真图像拼接：结合电动平台位置反馈与智能阴影校正，实现边缘到边缘无缝拼接，保证长度测量准确性。
✓ 可追溯校准体系：由 Evident 技术人员现场校准，支持国际计量标准一致性，满足审计与报告验证需求。
1. 三合一表面成像技术
OLS5500 同时具备 LSM、WLI 和 FVM 三种成像模式：LSM 提供对粗糙纹理和陡坡的高清横向分辨；WLI 实现纳米级垂直精度，适合光滑表面与薄膜分析；FVM 覆盖大面积不均匀区域，实现宏观至微观的连续观察。多种技术互补，适应多样样品。
2. 专用物镜保障全视野清晰度
自主研发的 LEXT 物镜有效消除传统镜头常见的边缘畸变，在整个视场范围内保持形状保真与测量准确。高性能物镜最高达 0.95 NA，长工作距离型号便于大尺寸或深腔样品观测。
3. 高对比度成像增强选项
配备激光DIC与彩色DIC技术，显著提升表面形貌与材料边界的可见性。顶层检测滤波器可分离真实表面信号，抑制底层干扰，特别适用于透明薄膜或多层结构分析。
4. 快速高效的大面积成像
智能阴影校正技术优化拼接图像光照一致性，减少伪影。高NA Mirau WLI 物镜扩大单幅视场——20X 覆盖比传统50X宽6倍，50X比传统100X宽4倍，大幅降低拼接次数与总测量时间。
5. 自动化智能测量流程
Smart Scan II 支持一键启动全自动数据采集；PEAK算法通过跳过无效Z层缩短采集时间；倾斜调整辅助功能指导用户快速完成水平校正；宏命令与实验管理器支持一键判断“通过/失败”，简化重复任务。
| 型号 | OLS5500-SAF | OLS5500-EAF | OLS5500-LAF | ||
| 总放大倍数 | 54X - 17280X | ||||
| 视野 | 16 um–5,120 um | ||||
| 测量原理 | 光学系统 |
反射式共聚焦激光扫描显微镜 反射式共聚焦激光扫描微分干涉相衬显微镜 聚焦变化显微镜、彩色、彩色微分干涉对比显微镜 |
|||
| 白光干涉测量 | - | ||||
| 光接收元件 | 激光：光电倍增管（2通道），彩色：CMOS彩色相机 | ||||
| 大型标准模型 | 高度 | 重复性 σn-1 *1 *2 *5 | 5X：0.45um，10X：0.1um，20X：0.03um，50X：0.012um，100X：0.012um | ||
| 准确度*1 *3 *5 | 0.15 + L/100 μm（L：测量长度[μm]） | ||||
| 测量噪声*1 *4 *5 | 1 nm（典型值） | ||||
| 长度 | 重复性 3σn-1 *1 *2 *5 | 5X：0.4um，10X：0.2um，20X：0.05um，50X：0.04um，100X：0.02um | |||
| 准确度*1 *3 *5 | 测量值±1.5% | ||||
| 单次测量中的最大测量点数 | 4096 × 4096 像素 | ||||
| 测量点的最大数量 | 4亿像素 | ||||
| XY平台配置 | 操作范围 | 100 mm × 100 mm（3.9 × 3.9 英寸）电动 | 300 mm × 300 mm（11.8 × 11.8 英寸）电动 | ||
| 最大样品高度 | 100 mm（3.9 英寸） | 210 mm（8.3 英寸） | 37 mm（1.5 英寸） | ||
| 激光光源 | 波长 | 405nm | |||
| 最大输出 | 0.95 mW | ||||
| 激光课程 | 2 类（JIS C 6802:2018、IEC60825-1:2014、EN60825-1:2014/A11:2021、GB/T 7247.1-2024） | ||||
| 彩色光源 | 白色LED | ||||
| 电力 | 240 W | 278 W | |||
| 大量的 | 显微镜主体 | 约31kg（68.3磅） | 约43kg（94.8磅） | 约 50 kg（110.2 磅） | |
| 控制盒 | 约12kg（26.5磅） | ||||
WLI |
高度 |
重复性 σn-1 *1 *5 |
0.3% |
准确度*6 |
1%（典型值） |
||
表面形貌重复性*5 *7 |
0.08 nm |
||
RMS 重复性*8 |
<0.008 nm |
||
最大样品高度 |
68mm |
||
标准软件：数据采集应用/分析应用（简单分析） |
OLS55-BSW |
电动舞台组件应用*1 |
OLS50-S-MSP |
白光干涉测量应用 |
OLS-S-WLI |
焦点变化应用 |
OLS-S-FV |
高级分析应用*2 |
OLS50-S-AA |
薄膜厚度测量应用 |
OLS50-S-FT |
自动边缘测量应用 |
OLS50-S-ED |
颗粒分析应用 |
OLS50-S-PA |
实验性全辅助应用程序 |
OLS51-S-ETA |
球/圆柱表面角分析应用 |
OLS50-S-SA |
*1 包括自动拼接数据采集和多区域数据采集功能。
*2 包括轮廓分析、差异分析、台阶高度分析、表面分析、面积/体积分析、线粗糙度分析、面粗糙度分析和直方图分析。
系列 |
模型 |
数值孔径（NA） |
工作距离（WD）（mm） |
|---|---|---|---|
UIS2物镜 |
MPLFLN2.5X |
0.08 |
10.7 |
MPLFLN5X |
0.15 |
20 |
|
LMPLFLN10X |
0.25 |
21 |
|
LEXT专用物镜（10X） |
MPLFLN10XLEXT |
0.3 |
10.4 |
LEXT专用物镜（高性能型） |
MPLAPON20XLEXT |
0.6 |
1.0 |
MPLAPON50XLEXT |
0.95 |
0.35 |
|
MPLAPON100XLEXT |
0.95 |
0.35 |
|
LEXT专用物镜（长工作距离型） |
LMPLFLN20XLEXT |
0.45 |
6.5 |
LMPLFLN50XLEXT |
0.6 |
5.2 |
|
LMPLFLN100XLEXT |
0.8 |
3.4 |
|
超长工作距离镜头 |
SLMPLN20X |
0.25 |
25 |
SLMPLN50X |
0.35 |
18 |
|
SLMPLN100X |
0.6 |
7.6 |
|
LCD镜头的长工作距离 |
LCPLFLN20XLCD |
0.45 |
8.3-7.4 |
LCPLFLN50XLCD |
0.7 |
3.0-2.2 |
|
LCPLFLN100XLCD |
0.85 |
1.2-0.9 |
|
白光干涉物镜 |
WLI10XMRTC |
0.3 |
8.2 |
WLI20XMRTC |
0.6 |
1.0 |
|
WLI50XMRTC |
0.8 |
1.0 |
适用领域：半导体与集成电路检测、材料科学研究、生物医学工程、精密机械加工、表面涂层分析、薄膜厚度测量、颗粒与缺陷分析、质量控制与生产验证等。
A：支持激光扫描显微镜（LSM）、白光干涉（WLI）和焦点变化显微镜（FVM）三种技术，可在同一平台上切换使用。
A：使用 MPLAPON100X LEXT 物镜时测量噪声为 1 nm（典型值）；WLI 模式下表面形貌重复性为 0.08 nm。
A：OLS5500-SAF 和 OLS5500-EAF 配备 100 mm × 100 mm 电动平台，最大样品高度分别为 100 mm 和 210 mm；OLS5500-LAF 配备 300 mm × 300 mm 电动平台，最大样品高度为 37 mm。
A：支持。OLS5500 在电动平台上集成长度测量模块，结合位置反馈与模式匹配，保证拼接图像数据的精度，尤其适用于 100 mm 电动载物台。
A：包括白光干涉测量应用（OLS-S-WLI）、焦点变化应用（OLS-S-FV）、高级分析应用（OLS50-S-AA）、薄膜厚度测量应用（OLS50-S-FT）、颗粒分析应用（OLS50-S-PA）等多种专业软件模块。
1、首先客户需要确认产品品牌、产品型号、产品货号、产品规格、参数、货期等；
2、其次确认产品旳使用须知，买卖双方信息相互，确认收货和收票地址；
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