DZF型真空干燥箱（Model DZF Vacuum Drying Oven）是一款专为在真空环境下进行高效、安全干燥处理而设计的实验室设备。该系列产品适用于对易氧化、易分解、具热敏性以及成分复杂的物质进行干燥，广泛应用于药品、半导体、生物膜、电子元件及锂电行业等高要求工业领域。
设备采用优质材料与先进控温技术，配备微电脑智能控温仪，具备PID自整定、定时控制和功率抑制功能，确保控温精确可靠。工作室为长方形结构，空间利用率高，搭配钢化防弹双层玻璃观察窗，便于实时监控内部工作状态。G型采用搁板式加热，实现快速升温与低能耗；H型则采用环绕式加热，温度分布更均匀，满足多样化实验需求。
✓ 多种加热方式可选：G型为搁板式加热，每块搁板独立控温，升温迅速；H型为环绕式加热，温度均匀，支持任意增减搁板。
✓ 高精度智能控温：微电脑控温仪支持设定与测定双数字显示，具备PID自整定、定时（0～9999min）和功率比例调节功能，控温波动度±1℃。
✓ 安全防护全面：内置超温报警系统，超过限定温度时自动声光报警并切断加热电源，保障实验安全。
✓ 优质材质与密封设计：工作室采用304不锈钢材质，四周圆弧设计易清洁；整体成型硅橡胶门封圈耐高温，确保箱内维持≤133Pa的高真空度。
✓ 标配高性能真空泵：下箱体机柜标配2XZ-4或2XZ-8真空泵，保障稳定抽真空性能。
✓ 灵活扩展性强：支持选配惰性气体进气阀、干式真空泵、嵌入式打印机、RS485通讯接口等多种配置，适配洁净环境与数据记录需求。
1. 搁板式与环绕式加热方式可选
G型采用搁板式加热，每块搁板配备独立加热元件和温度传感器，直接接触传热，升温快、能耗低；H型采用环绕式加热，加热元件均匀分布在工作室四周，整体同步升温，温度更均匀，且搁板可抽取，便于清洁维护。
2. 微电脑智能控温系统
配备高精度控温仪，支持设定温度与实测温度双显，具有PID自整定、定时控制（0～9999分钟）和加热功率比例调节功能，有效防止低温段过冲，提升控温稳定性。
3. 高效真空密封结构
采用整体成型硅橡胶门封圈，耐连续高温运行，密封性能优异，可长期维持箱内≤133Pa的高真空环境，适用于对氧气敏感物质的干燥处理。
4. 安全保护机制完善
集成超温报警系统，当温度超过设定限值时，仪表自动触发声光报警并切断加热电源，避免实验事故发生，确保设备长时间安全运行。
5. 观察与操作便捷性设计
配备钢化防弹双层大观察窗，视野清晰，无需开启箱门即可实时观察样品状态；长方形工作室最大化利用空间，304不锈钢内胆配合圆弧角设计，易于清洁维护。
| 型号 | DZF-6090LG(原DZF-6090) | DZF-6210LG(原DZF-6210) | DZF-6500LG | DZF-6090LH | DZF-6210LH |
| DZF-6094LG (原DZF-6094) | DZF-6216LG (原DZF-6216) | ||||
| 控温范围(℃) | RT+10～250℃ | ||||
| 温度分辨率(℃) | 0.1℃ | ||||
| 温度波动度(℃) | ±1℃ | ||||
| 加热方式 | 搁板式加热 | 环绕式加热 | |||
| 真空度 | ≤133Pa | ||||
| 定时范围(min) | 0～9999min | ||||
| 工作环境温度(℃) | 5～40℃ | ||||
| 电源电压 | AC220V 50HZ | AC380V 50Hz | AC220V50HZ | ||
| 功率(W) | 1200W 1950W | 2000W 3300W | 4320W | 3080W | 3620W |
| 工作室尺寸(mm) | 450×450×450 | 560×590×640 | 630×810×845 | 450×450×450 | 560×590×640 |
| 外形尺寸(mm) | 635×635×1295 | 750×775×1485 | 1050×1090×1800 | 635×635×1295 | 750×775×1485 |
| 载物搁板-标配 | 2块/4块(2块独立控温) | 3块/6块(3块独立控温) | 4块独立控温 | 2块 | 3块 |
| 载物搁板-最多 | 2块/4块 | 3块/6块 | 4块 | 4块 | 6块 |
| 标配真空泵 | 2XZ-4 | 2XZ-4 | 2XZ-8 | 2XZ-4 | 2XZ-4 |
适用领域：药品粉末干燥烘焙、半导体制造、生物膜制备、电子元件封装、锂电池材料处理、易氧化与热敏性物质干燥等需要真空环境的工业与科研场景。
设备应放置于通风良好、无腐蚀性气体的环境中，工作环境温度保持在5～40℃之间。定期检查门封圈是否完好，避免因老化导致真空泄漏。清洁时请使用柔软湿布擦拭内胆，禁用强酸碱清洁剂。长时间不使用时应断开电源，并保持箱内干燥。
| 型号 | 加热方式 | 控温范围(℃) | 工作室尺寸(mm) | 功率(W) | 标配真空泵 |
|---|---|---|---|---|---|
| DZF-6090LG | 搁板式加热 | RT+10～250℃ | 450×450×450 | 1200W 1950W | 2XZ-4 |
| DZF-6210LG | 搁板式加热 | RT+10～250℃ | 560×590×640 | 2000W 3300W | 2XZ-4 |
| DZF-6500LG | 搁板式加热 | RT+10～250℃ | 630×810×845 | 4320W | 2XZ-8 |
| DZF-6090LH | 环绕式加热 | RT+10～250℃ | 450×450×450 | 3080W | 2XZ-4 |
| DZF-6210LH | 环绕式加热 | RT+10～250℃ | 560×590×640 | 3620W | 2XZ-4 |
A：控温范围为RT+10～250℃。
A：温度波动度为±1℃，控温精确可靠。
A：G型采用搁板式加热，每块搁板独立控温；H型采用环绕式加热，温度分布均匀，支持任意增减搁板。
A：真空度可达≤133Pa。
A：支持，定时范围为0～9999分钟，可自由设定运行时间。
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